电子行业——工业超纯水净化
    电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。此外，晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水，造成对环境的污染。
    通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用，在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本。
    超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
    电子行业如导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
    电子行业水处理设备的工艺流程:
    电子行业水处理设备的工艺大致分成以下几种： 大河水网

    二级反渗透（RO2）：
    原水——预处理——级反渗——二级反渗透——纯水箱——0.22μm精密过滤器——纯化水

    一级反渗透+混床树脂（RO+MB）：
    原水——预处理－——渗透装置——混床树脂－——制混床树脂——后处理——超纯水

    一级反渗透+EDI装置（RO+EDI）
    原水——预处理——反渗透装置——EDI装置——后处理——超纯水

    一级反渗透+EDI装置+混床树脂（RO+EDI+MB）
    原水——预处理——反渗透装置——EDI装置——精制混床树脂——后处理——超纯水
 
    电子行业水处理设备超纯水设备出水标准：
    中国电子行业超纯水国家标准GB/T11446.1-1997
    实验室用水国家标准GB6682-2008
    美国半导体工业用纯水指标
    美国试验级用水标准ASTM/NCCLS

    电子行业水处理设备应用范围：
    半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
    超纯材料和超纯化学试剂、光导纤维、光盘
    LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、 EL、TFT、玻壳
    高品质显像管、萤光粉生产
    实验室和中试车间
    汽车、家电表面抛光处理
    光电产品