锦州集成电路芯片用水设备,锦州光电器件用水设备

添加时间：2012/2/15 11:38:00

产品名称：锦州集成电路芯片用水设备,锦州光电器件用水设备

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锦州集成电路芯片用水设备,锦州光电器件用水设备,锦州微电子工业用水设备 1.电子工业用超纯水概述 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。 2.制备电子工业用超纯水的工艺流程 电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种： 　　 1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 　　 2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 　　 3、采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 锦州集成电路芯片用水设备,锦州光电器件用水设备,锦州微电子工业用水设备 3.电子工业超纯水设备特点 电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。 4.电子工业用超纯水的应用领域集成电路芯片用水设备,光电器件用水设备,微电子工业用水设备 1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水； 　　 2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水； 　　 3、实验室和中试车间用超纯水； 　　 4、汽车、家电表面抛光处理； 　　 5、光电子产品； 　　 6、其他高科技精微产品； EDI超纯水设备工作原理：锦州集成电路芯片用水设备,锦州光电器件用水设备,锦州微电子工业用水设备 EDI超纯水处理设备的工作原理：电去离子（EDI）系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。 淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留；水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。 EDI模块将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如图所示。 EDI模块中将一定数量的EDI单元间用格板隔开，形成浓水室和淡水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以二级反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI超纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。 EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。 EDI设备模块结构特点： 　　1、淡水隔板采用卫生级PE材料 　　2、EDI膜片采用进口均相膜和国产异相离子交换膜 　　3、采用进口EDI专用均粒树脂和国产EDI专用均粒树脂 　　4、EDI电极板采用钛镀钌技术 　　5、压紧板采用具有硬性的合金铝轧铸而成。 　　6、固定螺丝采用国标标准件 　　7、膜堆出厂最高试压7bar不漏水 　　8、膜堆电阻低、功耗小 　　9、外观装饰板造型美观结实 　　10、最大膜堆处理水量3T/H，最小模堆处理水量75L/H 　　11、纯水、浓水、极水通道设计合理，不易堵塞，水流分布均匀、无死角。 EDI设备进水指标要求： 　　◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水 　　◎TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：＜25ppm。 　　◎电导率：＜40μS/cm 　　◎ＰH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0。 　　◎温度： 5～35℃。 　　◎进水压力：＜4bar（60psi）。 　　◎硬度：（以CaCO3计）：＜1.0ppm。 　　◎有机物（ TOC）：＜0.5ppm。 　　◎氧化剂：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。 　　◎变价金属： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。 　　◎H2S：＜0.01ppm。 　　◎二氧化硅：＜0.5ppm。 　　◎色度：＜5APHA。 　　◎二氧化碳的总量：＜10ppm 　　◎ SDI 15min：＜1.0。 办公电话： 024-31519871 谢绝推销 销售服务 18940199181 谢绝推销 传真电话： 024-88616429 技术服务： 18904059090 采购部：（推销请联系我^_^） 18940190403 公司网站： http://www.ltld.net.cn http://www.shenyangshui.cn/ pp滤芯 http://www.pplvxin.cn/