二极管超纯水设备,半导体超纯水设备,工业超纯水设备

EDI超纯水产品简介：
　　近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品（酸碱）和纯水，并造成一定的环境问题，因此需要开发无酸碱超纯水系统。

　　正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需要，于是将膜、树脂和电化学原理相结合的EDI技术成为水处理技术的一场革命。其离子交换树脂的的再生使用的是电，而不再需要酸碱，因而更满足于当今世界的环保要求。二极管超纯水设备,半导体超纯水设备,工业超纯水设备

　　自从1986年EDI膜堆技术工业化以来，全世界已安装了数千套EDI系统，尤其在制药、半导体、电力和表面清洗等工业中得到了大力的发展，同时在废水处理设备、饮料及微生物等领域也得到广泛使用。

　EDI工作原理:
　　EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如图所示。 EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

　EDI装置是应用在反渗透系统之后，取代传统的混合离子交换技术（MB-DI）生产稳定的去离子水。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点:
　　 ①水质稳定
　　 ②容易实现全自动控制
　　 ③不会因再生而停机
　　 ④不需化学再生
　　 ⑤运行费用低
　　 ⑥厂房面积小
　　 ⑦无污水排放

EDI设备的化学清洗及再生,EDI设备,超纯水设备,树脂再生

膜块堵塞的原因主要有下面几种式：颗粒/胶体污堵 无机物污堵 有机物污堵 微生物污堵。

       清洗方法时间(分)备注：酸洗30-60 碱洗30-60 盐水清洗5-30 消毒25-40 冲洗≥50 再生≥120。

       根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标：

       单个膜块清洗时药液配用量：

       1. 酸洗温度15-25℃
       2. 碱洗温度25-30℃
       3. 配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水;
       1.0t/h  80L
       2.0t/h 110L
       3.0t/h 150L
       5.0t/h 200L
       对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量。

       EDI设备膜块的再生：确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。
        使系统构建成一个闭路自循环管路。
        按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
        给EDI送电，调节电流从1A开始分步缓慢向EDI加载电流(最大不能超过6A)。
        直至产水电阻率达工艺要求到或者≥14.5MΩ.cm
        提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

       EDI设备运行维护注意事项：沈阳二极管超纯水设备,沈阳半导体超纯水设备,沈阳工业超纯水设备

       注意：试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册。本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册。
 公司名称：沈阳纯净水设备公司

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生产基地：沈阳

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