添加时间：2012/1/12 10:59:00
产品名称： 山东电镀涂装用超纯水设备, 山东晶片切割用高纯水设备
相关参数：大河人家
黑龙江超纯水设备, 黑龙江超纯水机, 黑龙江高纯水设备
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质，同时伴有对硅、尘粒、有机碳、微生物等物质含量的要求各不一。
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电子工业用超纯水的工艺流程
电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→精密过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙、碳过滤器→保安过滤器→一级反渗透设备→原水箱→二级反渗透设备→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→输送泵→UV灯→精混→精密过滤器→用水点
4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→砂、碳过滤器→保安过滤器→反渗透→中间水箱→中间水泵→混合床→微孔过滤器→用水点
电子工业用超纯水的应用领域
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
2、超纯材料和超纯化学试剂；
3、实验室和中试车间；
4、汽车、家电表面抛光处理；
5、光电产品、液晶显示器
6、其他高科技精微产品；
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表1 显像管、液晶显示器用纯水水质
项目单位 电阻率
MΩ·cm
(25t) 细菌
个/ml 微粒
个/ml TOC
mg/L Na+
μg/L K+
μg/L Cu
μg/L Fe
μg/L Zn
μg/L
黑白显像管
彩色显像管
液晶显示器 ≥5
≥5
≥5 ≤5
≤1
≤1 ≤10(Φ＞0.5μ)
≤10(Φ＞1μ)
≤10(Φ＞1μ) ≤0.5
≤0.5
≤1 ≤10
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10 ≤8
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10 ≤10
≤10
≤10
表2 集成电路（DRAM）对纯水水质的要求[4][5][6]
集成电路（DRAM）集成度 16K 64K 256K 1M 4M 16M
相邻线距（μm） 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5
微粒 直径（μm） 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05
个数（PCS/ml） ＜100 ＜100 ＜20 ＜20 ＜10 ＜10
细菌（CFU/100ML） ＜100 ＜50 ＜10 ＜5 ＜1 ＜0.5
电阻率（μs/cm，25℃） ＞16 ＞17 ＞17.5 ＞18 ＞18 ＞18.2
TOC(ppb) ＜1000 ＜500 ＜100 ＜50 ＜30 ＜10
DO(ppb) ＜500 ＜200 ＜100 ＜80 ＜50 ＜10
Na+(ppb) ＜1 ＜1 ＜0.8 ＜0.5 ＜0.1 ＜0.1
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河南世韩纯水设备有限公司
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