JF—RO—MF—8T/H超纯水系统
电子半导体行业对水质要求较高，一般来说需要超纯水，常见的电子半导体行业用超纯水工艺有一下几种：
1、预处理－反渗透－水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象
2、预处理－一级反渗透－加药机( PH调节)－中间水箱－第二级反渗透－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象
3、预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象
4、 预处理--反渗透--中间水箱--水泵--EDI装置--纯化水箱--纯水泵--紫外线杀菌器--精制抛光混床---TOC分解器－0.2或0.5 μ m精密过滤器－用水对象
1,2属于比较常见的传统工艺，3,4采用EDI+精混工艺，水质更为稳定，是比较先进的超纯水工艺，但造价相对价高。
洁峰环保针对电子半导体行业的用水要求设计的JT—ROM—EF和JT—ROM—MF超纯水系列，出水水质符合我国电子工业部电子级水质技术标准，电子工业部高纯水水质试行标准，美国ASTM纯水水质标准，美国半导体工业用纯水指标，日本集成电路水质标准。

JT—RO—MF—5T/H超纯水系统工艺流程：

预处理－反渗透－水箱－阴阳混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－TOC分解器－精密过滤器－用水对象

功能简介：
预处理（多介质+活性炭过滤器）：多介质过滤器用以填充石英砂、无烟煤和锰砂等滤料。其作用主要是降低水浊度，并且可以去除水中的大量细菌、病毒、有机物等。从而为后续的消毒工序创造了有利条件。锰砂对铁、锰的去除效果显著。活性炭具有大量的微孔和巨大的比表面积，具有极强的物理吸附能力。能够十分有效的吸附水中杂质，尤其是有机物和微生物。活性炭表面形成的含氧催化氧化和化学吸附的功能，可以去除一部分水中的金属离子。活性炭对水中尚存的余氯有极强的吸附作用，以保护下游的不锈钢设备及管道表面和满足后序水处理单元的入水要求。
反渗透：通过RO膜有效地去除水中的带电离子、无机物、胶体微粒、细菌及有机物质，高效脱盐以达到生产纯水之目的。
混床系统：利用阳阴树脂吸附置换水中阳阴离子，使出水达到超纯水标准。
紫外线杀菌器：快速去除霉菌孢子，水藻等常见细菌，杀菌效率高达99%。
精混：装置罗门哈斯抛光树脂，进一步提高水质（纯水经过DEI后可达16兆，经过精混后可达18兆以上）
TOC分解器：滤除紫外线不能除尽的一般细菌、大肠菌、病毒，氧化水中有机质，进一步净化水质。
精密过滤器：精密过滤器又称保安过滤器，其作用在于滤除水中0.2um以上的微粒和细菌，实现高精度过滤

系统优点：洁峰环保设计的此套超纯水设备将传统工艺与现代工艺相结合，出水水质完全符合电子半导体行业的用水要求；与EDI工艺相比造价相对较低，可减少前期投入用；核心部件均为业内知名品牌，可延长设备使用寿命；填充罗门哈斯树脂，免去再生工序；耗材更换周期长，可降低运行费用；设备设计合理，占地面积小，操作方面。

备注：洁峰环保设计的JF—RO—MF超纯水系列除用于电子半导体行业外，亦可用于轻纺、化工、医药、光学光电等需要超纯水的领域；可以根据您的出水量定制不同型号的超纯水，更多详情尽可来电垂询。

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