电子半导体工业EDI超纯水设备介绍
超纯水，既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm。超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质。
名清源科技（北京）有限公司设计研发的电子半导体工业EDI超纯水设备，采用最先进的多级预处理+双级RO反渗透+EDI+混床抛光技术，根据不同用户的需要，定制设计不同产水水质要求和不同产水流量要求的超纯水设备，设备产水量0.2-10吨/小时，制备的超纯水完全符合中国国家实验室用水GB6682-2008标准，对于特定领域的特殊要求，可设计产水水质达到18.25MΩ的极限超纯水设备。
应用领域
超纯水设备适合电子半导体、生物制药等行业，以及原子吸收光谱、原子发射光谱、高效液相色谱、离子色谱、质谱分析、ICP等离子发射光谱等的微量分析及配置，稀释分析试剂等一般化学实验室的应用，也适合于精密光学镜片及感光胶片冲洗等行业用的纯水和超纯水。
设备特点
★0.2-10吨/小时产水量的中型超纯水设备预处理和反渗透单元所有管件、配件采用304不锈钢，EDI和抛光除盐系统所有管件、配件采用卫生级内外抛光无死角的无菌316L不锈钢，保证水质的同时，坚固耐用，抗腐蚀。
★主要部件采用国际知名品牌，保证优良的产水水质。
★超纯水设备的电路和水路彻底分离，避免因内部潮湿、漏水引起的电路老化损坏。
★先进的微电脑控制以及参数修改、提示功能，运行状态和产水水质在线显示，操作简单、快捷。
★采用国际最先进的单双级RO反渗透+EDI连续电除盐+抛光混床工艺，出水电阻率可达18.25MΩ.cm，连续产水性能极佳。
技术特点
★原水水质无论是地下水或自来水，我们都可以通过调整预处理工艺促使进水满足超纯水设备的进水要求。
★完全按照用户的个性化需求进行定制，可定制的服务有：产水流量，产水水质，连续稳定产水总量，实现1-3种不同水质同时出水，等等。
工艺参数
| 型号 |
CCGY10E |
| 单位时间产水量 |
200-10000L/H |
| 进水水质要求 |
市政自来水，地下水（增设预处理装置） |
| 产水电阻率 |
15-18.25MΩ.cm（25℃） |
| 总有机碳 |
≤10ppb |
| 热源 |
<0.001EU/ml |
| 颗粒物(>0.22um) |
<1/ml |
| 微生物 |
<1cfu/ml |
| 连续稳定产水总量 |
可根据需求定制 |
| 工艺 |
多级预处理+单、双级RO反渗透+EDI+抛光混床 |
| 系统功能特点 |
多重功能定制
微电脑控制，运行状态显示
产水在线监测，产水参数在线显示
开机自检、自动排水
耗材更换提示 |
| 安全保护功能 |
内部漏水、进水压力过低、缺水、内部管路压力过高时自动停机保护 |
| 电源电压 |
380V |
| 额定功率 |
大于2KW |
| 设备规格L×W×H(mm) |
2500×1200×1700（参考尺寸） |