电子工业用的超纯水广泛用于生产计算机硬盘、集成电路芯片、半导体、显像管、液晶显示器、线路板等用的纯水，对水的纯度要求较高，对出水电阻率的要求达到上（MΩ.cm）级，用预RO反渗透作为一级处理，再通过混床进行二次处理，产品水符合电子行业用水相关标准。控制部份采用PLC控制，可实现自动起停，加药，及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的存储和打印

    典型工艺:原水→预处理→反渗透→EDI(或混床)→精密过滤→用水点
    1   预处理－反渗透－中间水箱－水泵－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象
    2   预处理－一级反渗透－加药装置（ PH调节）－中间水箱－第二级反渗透－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象
    3   预处理－反渗透－中间水箱－水泵－ EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象
    4   预处理－反渗透－中间水箱－水泵－ EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象 

应用场合：

   5   半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
   6   超纯材料和超纯化学试剂；
   7   实验室和中试车间
   8   汽车、家电表面抛光处理；
   9   其他高科技精微产品。
   (水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级）

    运行参数：

    产水量：0.5~100m3/h﹒台

    纯度：16~18MΩ.Cm

    脱盐率：反渗透系统98%

    TOC:<10ppb

    操作压力：1~1.6Mpa

    细菌数：〈1个/升

    回收率：50%-80%